MP-2D金相试样磨抛机
用途和特点
在金相试样制备过程中,试样的磨光是不可少的工序。试样的磨光一般分粗磨和精磨两道工序。粗磨的目的是为了获得一个平整的表面,精磨的目的是为了消除这些磨痕,以得到平整而光滑的磨面为下一步的抛光做准备。
MP-2D金相试样磨抛机采用双盘四速设计,可以用于各种金相试样的预磨和抛光,壳体采用ABS塑料一体成型,外观新颖,具有转动平稳、噪声小、操作方便、工作效率高等特点,并自带冷却装置,可以在磨制时对试样进行冷却,以防止因试样过热而破坏金相组织。适用于工厂、大专院校及科研单位的金相试验室,是金相试样磨抛的佳选择。
技术参数
磨抛盘直径:φ203mm(可定制φ230mm、φ250mm)
磨抛盘转速:
左盘:300r/min(低速)、600r/min(高速)
右盘:500r/min(低速)、1000r/min(高速)
输入电压:三相380V 50Hz
输入功率:0.37KW
外形尺寸: 730×765×320mm
重量: 50Kg
装箱单
型号:MP-2D
产品名称:金相试样磨抛机
单位:台
数量:1
产品附件
磨抛盘 2个 已安装在设备上
挡水圈 2个 已安装在设备上
压圈 2个 已安装在设备上
水砂纸 2张 Φ203mm
抛光织物 2张 Φ203mm
进水管 1根 Φ12
出水管 1根 Φ32
技术文件:1.产品说明书1份 2.产品合格证1份
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